Ionenimplanter

Ionenimplanter sind Maschinen, die Wafer aus Silizium bearbeiten. Alle Ionenimplanter besitzen eine Ionenquelle, eine Masse- und Energietrennung der Ionen sowie eine Kammer zur Handhabung der Wafer.

Als Dotanten dienen folgende Elemente:

• Bor
• Phosphor
• Arsen
• Indium
• Germanium

ferner auch:

• Stickstoff
• Sauerstoff
• Argon

Diese Elemente werden oft nicht in ihrer elementaren Form, sondern gebunden in gasförmiger oder fester Form (Pulver) eingesetzt:

• Bor BF3 (Gas)
• Phosphor PH3 (Gas)
• Arsen AsH3 (Gas)
• Indium InCl3 (fest)
• Germanium Ge (fest)
• Stickstoff N (Gas)
• Sauerstoff O
• Argon Ar

In der Ionenquelle wird das Gas ionisiert und mit einer Hochspannung beschleuningt. Magnete nehmen eine Massetrennung vor.

Man unterscheidet drei Grundtypen von Implantern:

• Mittelstromimplanter
• Hochstromimplanter
• Hochenergieimplanter

Weiterhin kann man Implanter nach ihrem Handlingssystem einteilen

• Batchmaschinen (es werden mehrer Wafer gleichzeitig bearbeitet)
• Single-Wafer-Maschinen (die Wafer werden nacheinander bearbeitet)